Stencil-Maske (Lochmaske) - lt. Antragsteller hergestellt aus einer SOI Siliziumwaferscheibe mit elektrisch leitender Oberflächenbeschichtung. Die Scheibe weist einen zentrisch angelegten, durch lithografische und ätzende Prozessschritte hergestellten, ca. 20 x 20mm großen Bereich (Membranfeld) mit einer Restdicke von ca. 15 µm auf. Das Membranfeld (Blendenfeld) enthält eine Matrix aus vollständig durchgeätzten, quadratischen Blendenöffnungen mit unterschiedlich großen, sich abwechselnden Öffnungsbreiten (ca. 3,2 µm und ca. 4,0 µm; ca. 260.000 Öffnungen je Öffnungsgröße); - wird als Lochmaske sowie als Strahlkalibrierungsziel für Elektronenstrahlen eingesetzt und ist zur Verwendung in einem Multielektronenstrahlmaskenschreiber bestimmt. - Abmessungen: ca. 50 x 50 x 0,65mm. (Abbildung siehe Anlage)

Allgemeine Vorschriften für die Auslegung der Kombinierten Nomenklatur (AV) 1, 3a und 6; Anmerkung 2 zu Kapitel 37; Erläuterungen zum HS zu Position 3705; Einzelentscheidung zur KN zu Unterposition 3705 0090; Untersuchungsbefund der TUA, GZ. 1364/2022 vom 9.6.2022 (gilt analog).