Description of goods
Anderer als in den HS-Unterpositionen 9027 10 bis 9027 30 genannter Apparat für physikalische Untersuchungen, optische Strahlen verwendend, sog. NanoSpec Mod. AFT 4150 System, in Form eines Gerätesystems, das im Wesentlichen aus einem mit optischem Messkopf, Mikroskop, Kamera, UV- und Halogenlampengehäuse, Objektivrevolver und Linsen sowie einem X-Y-Z-Messtisch versehenen Untersuchungsapparat, einem UV-Lampennetzteil, einer Ansteuerungsbox für den Messtisch und den Objektivrevolver, einem PC Intel 486 OS/2 Warp 3, in dem ein sog. Nanometrics CS9 Computer mit Messelektronik eingebaut ist, einem Monitor, einer Maus/Trackball, einer Tastatur und einem Joystick für X-Y-Steuerung besteht. Die Systemkomponenten sind über Kabel miteinander verbunden und bilden eine funktionelle Einheit. Die Ware dient zur Analyse der Waferoberfläche (Schichtdicke) während der Produktion in der Halbleiterfertigung. Zur Messung werden die Messproben (Wafer) mit UV- und sichtbarem Licht bestrahlt. Das eingestrahlte Licht wird von den Wafern in Abhängigkeit von der Wellenlänge unterschiedlich stark reflektiert bzw. absorbiert. Das reflektierte Licht wird im Messkopf an einem Gitter in seine Wellenlängen aufgespalten. Ein Photomultiplier misst die Intensität des reflektierten Lichts in Abhängigkeit von der Wellenlänge und ermöglicht so die Berechnung der Schichtdicke der Wafer. Ein Bild des Untersuchungsapparats befindet sich im Internet unter http://ec.europa.eu/taxation_customs/dds/ebticau_de.htm.
