Maschine zum Abtragen von Material von Präparatoberflächen aus verschiedenen Materialien (Metalle, Halbleiter, Kunststoffe, Keramiken) mittels Ionenstrahl, wobei dies durch den Beschuss von mechanisch vorgedünnten Proben mit Argon-Ionen geschieht. Die Beschleunigung von Ionen im Hochvakuum in Richtung des zu bearbeitenden Substrats führt zu einer Zerstäubung und Abtragung der Oberfläche. Das Gerät (Abmessungen: ca. 991 x 1474 x 788 mm) wird zur Präparation von Mikroskopproben (für Rasterelektronenmikroskope) verwendet. (Angaben laut Antragsteller)

Allgemeine Vorschriften für die Auslegung der Kombinierten Nomenklatur (AV) 1 und 6; Erläuterungen zum HS zu Pos. 8456 Buchstabe F).