Angaben: Fotomaske; Herstellung: mittels fotolithografischem Prozess; Verwendung: z.B. bei der Herstellung von integrierten Schaltungen oder optischen Sensoren. Befund: Andere Fotografische Platten und Filme, belichtet und entwickelt, ausgenommen kinematografische Filme.

AV 1 / AV 6 ErlKN Kap 37 (HS) RZ 03.0, 05.0 / ErlKN Pos 3705 (EE) RZ 01.0, 02.0, 03.0, 04.1, 05.1, 06.0, 07.0