Appareil de destruction de résidus gazeux de type PFC (hydrocarbures perfluorés - gaz à effet de serre) issus du processus de fabrication de plaques de silicium (wafer). Il récupère ces gaz qui subissent une forte élévation de température (6000°C) grâce au plasma généré par micro-ondes. Ces gaz sont décomposés à l'état atomique pour ensuite être recombinés en d'autres molécules associées à l'eau et éliminables (HF, F2, CO2). Le système est alimenté électriquement (415 et 230 VAC) et utilise de l’eau et de l’azote pour fonctionner (non stockés dans l’appareil hors fonctionnement). Neuf et hors fonctionnement, il est inerte, ne dégage pas de micro-ondes et ne contient ni gaz ni produit chimique. Dimensions : 2243X625X840mm.

Règles générales 1 et 6 : le classement est déterminé par les notes de section et de chapitre, ainsi que par le libellé de position, de sous-position et de code NC. NESH de la position 8419 point o) page XVI-8419-2 : exclusion des appareils industriels ou de laboratoires pour le traitement thermique des matières par induction ou par pertes diélectriques y compris les appareils à micro-ondes; renvoi au 8514.