Zollsuche

Angaben: Lithografiemaske aus einer Glasplatte. Die Masken bestehen aus einer Glasplatte, die auf einer Seite mit einer Chromschicht versehen ist. Das Material der Glasplatte ist je nach Anforderung Quarzglas bzw. Natrium-Kalzium-Silikatglas. Die Chromschicht wird beim Hersteller strukturiert, indem die Chromschicht partiell, entsprechend den Designvorgaben des Auftraggebers entfernt wird. Um das Absetzen von Partikeln auf der Chromseite zu verhindern kann zusätzlich ein sog. "pellicle" aufgebracht werden. Hierbei handelt es sich um eine dünne, für die Belichtungswellenlänge durchlässige Kunststofffolie, die auf dem Rahmen an der Außenseite der Maske aufgebracht wird. Befund: Fotografische Platten und Filme, belichtet und entwickelt, ausgenommen kinematografische Filme, andere als für Offsetreproduktionen, Fotomasken zur fotografischen Übertragung von Mustern von Schaltkreisen auf Halbleiterplatten

Stencil-Maske (Lochmaske), - lt. Antragstellerangaben hergestellt aus einer SOI Siliziumwaferscheibe mit elektrisch leitender Oberflächenbeschichtung. Die Scheibe weist einen zentrisch angelegten, durch lithografische und ätzende Prozessschritte hergestellten, ca. 20 x 20 mm großen Bereich (Membranfeld) mit einer Restdicke von ca. 15 µm auf. Das Membranfeld (Blendenfeld) enthält eine Matrix aus vollständig durchgeätzten, quadratischen Blendenöffnungen mit unterschiedlich großen, sich abwechselnden Öffnungsbreiten (ca. 3,2 µm und ca. 4,0 µm; ca. 260.000 Öffnungen je Öffnungsgröße); - wird als Lochmaske sowie als Strahlkalibrierungsziel für Elektronenstrahlen eingesetzt und ist zur Verwendung in einem Multielektronenstrahlmaskenschreiber bestimmt. Abmessungen: ca. 50 x 50 x 0,65 mm

Angaben: Redmark Dia für Sega Homestar Planetarium Nebulae; fotosensitive Folie, belichtet und entwickelt, zwischen zwei Polycarbonat-Scheiben; Projektionsscheibe für Sega Toys Heimplanetarium Homestar Pro Original und Sega Toys Heimplanetarium Homestar Flux. Warenbeschreibung: Dünne, bebilderte Folie zwischen zwei farblosen Kunststoffscheiben. Befund: Fotografische Platten und Filme, belichtet und entwickelt, ausgenommen kinematografische Filme.

Angaben: Lithografiemaske aus einer Glasplatte. Die Masken bestehen aus einer Glasplatte, die auf einer Seite mit einer Chromschicht versehen ist. Das Material der Glasplatte ist je nach Anforderung Quarzglas bzw. Natrium-Kalzium-Silikatglas. Die Chromschicht wird beim Hersteller strukturiert, indem die Chromschicht partiell, entsprechend den Designvorgaben des Auftraggebers entfernt wird. Um das Absetzen von Partikeln auf der Chromseite zu verhindern kann zusätzlich ein sog. "pellicle" aufgebracht werden. Hierbei handelt es sich um eine dünne, für die Belichtungswellenlänge durchlässige Kunststofffolie, die auf dem Rahmen an der Außenseite der Maske aufgebracht wird. Befund: Fotografische Platten und Filme, belichtet und entwickelt, ausgenommen kinematografische Filme, andere als für Offsetreproduktionen, andere als Mikrofilme, Fotomasken zur fotografischen Übertragung von Mustern von Schaltkreisen auf Halbleiterplatten

Stencil-Maske (Lochmaske) - lt. Antragsteller hergestellt aus einer SOI Siliziumwaferscheibe mit elektrisch leitender Oberflächenbeschichtung. Die Scheibe weist einen zentrisch angelegten, durch lithografische und ätzende Prozessschritte hergestellten, ca. 20 x 20mm großen Bereich (Membranfeld) mit einer Restdicke von ca. 15 µm auf. Das Membranfeld (Blendenfeld) enthält eine Matrix aus vollständig durchgeätzten, quadratischen Blendenöffnungen mit unterschiedlich großen, sich abwechselnden Öffnungsbreiten (ca. 3,2 µm und ca. 4,0 µm; ca. 260.000 Öffnungen je Öffnungsgröße); - wird als Lochmaske sowie als Strahlkalibrierungsziel für Elektronenstrahlen eingesetzt und ist zur Verwendung in einem Multielektronenstrahlmaskenschreiber bestimmt. - Abmessungen: ca. 50 x 50 x 0,65mm. (Abbildung siehe Anlage)