Rasterkraftmikroskop, sog. Atomic Force Microscope (AFM), im Wesentlichen bestehend aus einem Gehäuse mit einem sog. Cantilever mit Probenspitze sowie Messsensoren. Das Gerät dient der Ermittlung der Oberflächenstruktur von Fotomasken. Mit Hilfe der Messdaten können Defekte auf den Masken zielgerichtet und schnell repariert werden. Das Gerät ist Teil eines Fotomaskenreparatursystems. Nicht Position 8484, weil Waren des Kapitels 90 ausgenommen sind. Die Ware wir als "anderes als optisches Mikroskop, anderes als Unterposition (KN) 9012 1010" eingereiht. Abbildung: siehe Anlage

Rechtsvorschriften: AV 1 / AV 6 / Anm 1 m) ABS XVI