Angaben: TSMR 8900 (LB), positiver Fotolack, Belichtung mit g-Line, erzielbare Lackdicke 1100 - 1800 nm auf Si-Wafern. Lichtempfindliche Emulsion, bestehend aus mehr als 2 GHT, aber weniger als 12 GHT Diazooxonaphthalinsulfonsäurester (lichtaktive Komponente) und Novolakharz (Phenolharz) in einer Lösung aus Ethyllactat und n-Butylacetat, verwendet für die Sensibilisierung von Siliciumscheiben. Befund: Zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken, sensibilisierende Emulsion für Oberflächen, bestehend aus nicht mehr als 12 GHT Diazooxonaphtalinsulfonsäureester und Phenolharzen in einer Ethyllactat enthaltenden Lösung

AV 1 / AV 6 ErlKN Kap 37 (HS) RZ 02.0 / ErlKN Kap 37 (HS) RZ 08.0 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 01.0 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 02.1 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 09.0 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 14.0