DE22282/15-13707100015
Angaben:
TSMR 8900 (LB), positiver Fotolack, Belichtung mit g-Line, erzielbare Lackdicke 1100 - 1800 nm auf Si-Wafern. Lichtempfindliche Emulsion, bestehend aus mehr als 2 GHT, aber weniger als 12 GHT Diazooxonaphthalinsulfonsäurester (lichtaktive Komponente) und Novolakharz (Phenolharz) in einer Lösung aus Ethyllactat und n-Butylacetat, verwendet für die Sensibilisierung von Siliciumscheiben.
Befund:
Zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken, sensibilisierende Emulsion für Oberflächen,
bestehend aus nicht mehr als 12 GHT Diazooxonaphtalinsulfonsäureester und Phenolharzen in einer Ethyllactat
enthaltenden Lösung