Gasphasenätzer (Abbildung siehe Anlage) - aus einem Gehäuse mit Vakuum-/Prozesskammer, Vakuumpumpe, Vorratsbehälter   und integrierte Steuereinheit mit Monitor, - zur Bearbeitung von Halbleiter-Wafern aus Silizium, zur Strukturierung von    Silizium-Schichten durch isotropes Trockenätzen. "Gerät zum Herstellen von Halbleiterscheiben (wafers) - Gasphasenätzer"

AV 1 / AV 6 Anm 11 D) Kap 84