Angaben: Warenart: Fotoresist / Zubereitung aus Polymeren und strahlungsempfindlichen Verbindungen in organischen Lösemitteln - Erscheinungsbild: flüssig, schwach gelblich, klar - Zusammensetzung: s. vertrauliche Daten - Verwendungszweck: Auftragung auf Waferoberflächen zur bildmäßigen Strukturierung durch Belichtung und Entwicklung / Herstellung von IC-Schaltkreisen - Aufmachung: abgefüllt in kundenspezifischen Gebinden. Feststellungen: Die Angaben der Antragstellerin werden als zutreffend unterstellt. Eine Warenprobe wurde nicht vorgelegt. Befund: Bei der vorliegenden Ware handelt es sich zolltariflich um ein zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken.

Rechtsvorschriften: Anm 2 Kap 37 / AV 1 / AV 6 Erläuterungen: ErlKN Kap 37 (HS) RZ 08.0 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 01.0 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 02.1 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 09.0 / ErlKN Pos 3707 (HS) RZ 14.0