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Angaben: Warenart: Fotoresist / Zubereitung aus Polymeren und strahlungsempfindlichen Verbindungen in organischen Lösemitteln - Erscheinungsbild: flüssig, schwach gelblich, klar - Zusammensetzung: s. vertrauliche Daten - Verwendungszweck: Auftragung auf Waferoberflächen zur bildmäßigen Strukturierung durch Belichtung und Entwicklung / Herstellung von IC-Schaltkreisen - Aufmachung: abgefüllt in kundenspezifischen Gebinden. Feststellungen: Die Angaben der Antragstellerin werden als zutreffend unterstellt. Eine Warenprobe wurde nicht vorgelegt. Befund: Bei der vorliegenden Ware handelt es sich zolltariflich um ein zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken.

Angaben: Warenart: Fotoresist / Zubereitung aus Polymeren und strahlungsempfindlichen Verbindungen in organischen Lösemitteln - Erscheinungsbild: flüssig, schwach gelblich, klar - Zusammensetzung: s. vertrauliche Daten - Verwendungszweck: Auftragung auf Waferoberflächen zur bildmäßigen Strukturierung durch Belichtung und Entwicklung / Herstellung von IC-Schaltkreisen - Aufmachung: abgefüllt in kundenspezifischen Gebinden. Feststellungen: Die Angaben der Antragstellerin werden als zutreffend unterstellt. Eine Warenprobe wurde nicht vorgelegt. Befund: Bei der vorliegenden Ware handelt es sich zolltariflich um ein zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken.

Angaben: Warenart: Fotoresist / Zubereitung aus Polymeren und strahlungsempfindlichen Verbindungen in organischen Lösemitteln - Form: flüssig - Farbe: schwach gelblich - Zusammensetzung: s. vertrauliche Daten - Verwendungszweck: Auftragung auf Waferoberflächen zur bildmäßigen Strukturierung durch Belichtung und Entwicklung / Herstellung von IC-Schaltkreisen - Aufmachung: abgefüllt in kundenspezifischen Gebinden. Feststellungen: Die Angaben der Antragstellerin werden als zutreffend unterstellt. Eine Warenprobe wurde nicht vorgelegt. Befund: Bei der vorliegenden Ware handelt es sich zolltariflich um ein zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken.

Angaben: TSMR 8900 (LB), positiver Fotolack, Belichtung mit g-Line, erzielbare Lackdicke 1100 - 1800 nm auf Si-Wafern. Lichtempfindliche Emulsion, bestehend aus mehr als 2 GHT, aber weniger als 12 GHT Diazooxonaphthalinsulfonsäurester (lichtaktive Komponente) und Novolakharz (Phenolharz) in einer Lösung aus Ethyllactat und n-Butylacetat, verwendet für die Sensibilisierung von Siliciumscheiben. Befund: Zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken, sensibilisierende Emulsion für Oberflächen, bestehend aus nicht mehr als 12 GHT Diazooxonaphtalinsulfonsäureester und Phenolharzen in einer Ethyllactat enthaltenden Lösung

Angaben: THMR IP3250 (LB), positiver Fotolack, Belichtung mit i-Line, erzielbare Lackdicke 1100 - 1800 nm auf Si-Wafern. Lichtempfindliche Emulsion, bestehend aus mehr als 2 GHT, aber weniger als 12 GHT Diazooxonaphthalinsulfonsäurester (lichtaktive Komponente) und Novolakharz (Phenolharz) in einer Lösung aus Ethyllactat und n-Butylacetat, verwendet für die Sensibilisierung von Siliciumscheiben. Befund: Zubereitetes chemisches Erzeugnis zu fotografischen Zwecken, sensibilisierende Emulsion für Oberflächen, bestehend aus nicht mehr als 12 GHT Diazooxonaphtalinsulfonsäureester und Phenolharzen in einer Ethyllactat enthaltenden Lösung