Laseranlage - aus einem 2-Kammer Excimer Laser, einer Strahlführungseinheit aus Ausgangsstrahl- Monitoreinheit, Abschwächer, Strahlaufweitungsoptik und elektrisch steuerbaren Umlenk- spiegeln, Monitoreinheit für Strahlrichtung und -position, optischem Verschluss (Shutter) Beleuchtungsmodul, Blende, Abbildungsoptik, Strahlmonitor, Vakuumspanntisch (Chuck) und Positioniersystem - zur Herstellung von Substraten für Flachbildschirme (TFT-Bildschirme) durch Umkristal- lisation von amorphem Silizium in polykristallines Silizium. "Maschine von der ausschließlich zum Herstellen von Flachbildschirmen verwendeten Art, keine Ware der Unterpositionen 8486 3010 bis 8486 3050 - sog. Laseranlage"

AV 1 AV 6 Anm 9 D) Kap 84 Anm 5 E Kap 84 ErlKN Pos 8486 (HS) RZ 43.0 ErlKN Pos 8486 (HS) RZ 44.0