EQUIPEMENT DE DOPAGE DESTINE A LA FABRICATION DE DISPOSITIFS A SEMICONDUCTEUR OU DE CIRCUITS INTEGRES ELECTRONIQUES (FONCTION PRINCIPALE) OU A LA MODIFICATION DE SURFACE DES CARACTERISTIQUES PHYSICO-CHIMIQUES, OPTIQUES OU MECANIQUES DE MATERIAUX. IL S'AGIT D'UN APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE SERVANT A INTRODUIRE LES DOPANTS DANS LA STRUCTURE CRISTALLINE DE LA SURFACE DE LA PLAQUETTE SOUS LA FORME D'UN FAISCEAU D'IONS ACCELERES. POIDS : 2500KG ENVIRON. DIMENSIONS : 1.12X3.03X2.3M ENVIRON.

Règles générales 1 et 6 : le classement est déterminé par les notes de section et de chapitre, ainsi que par le libellé de position, de sous-position et de code NC 8486, 848620 et 84862090. NESH de la position 8486 point B 2) b) page XVI-8486-2.