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Sputteranlage - in Form eines modular konzipierten Maschinensystems aus zwei Hochvakuum-Beschichtungs- kammern mit Substrat- und Target-Aufnahmen, Magnetron-Sputterquellen mit Hochfrequenz- und Gleichstromgenerator, Kathoden-Systemen, Plasmaquelle, Heizvorrichtung, Handling- system zum Substrattransfer, Hochvakuum-Pumpen, Prozessgas-Versorgungs- und Verteiler- system, Schleusenkammer zur Bestückung und Anlagensteuerung, - zur Erzeugung definierter dünner Schichten auf Halbleiterscheiben (4"-Wafer-Substraten) durch Kathodenzerstäubung (Sputtering) von Metall-Targets unter Einsatz von Prozess- gasen im Ultra-Hochvakuum (PVD-Verfahren). "Apparat von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbauelementen verwendeten Art, keine Ultraschallwerkzeugmaschine - Sputteranlage"

Gasversorgungssystem - aus Gasleitungen mit Anzeigevorrichtungen, Durchflussregler, Druckregler, Filter- und Ventilsystem sowie elektrischer Schnittstelle, auf einem Einbauträger mit Anschlüssen für Strom- und Gasversorgung, - zur Versorgung des Prozessmoduls mit Prozessgasen nach Integration in das Prozessmodul eines Waferschnellheizsystem zur Herstellung von Halbleiter- bauelementen. "Gerät von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbauelementen verwendeten Art, keine Ultraschallwerkzeugmaschine - Gasversorgungssystem"

Energieversorgungseinheit Flash Power Supply Unit (FPSU) - aus vier Kondensatorbänken mit Spannungsversorgungseinheit, Ladeschaltung, Entladungs- und Widerstandseinheit, Thyristoren, Sicherheitsüberwachung und Systemsteuerung, in einem Schrankgehäuse mit Anschlussvorrichtungen, - zur elektrischen Versorgung von vier Blitz-Bogenlampen (max. Spannung 2,8 kV pro Lampe), - zur ausschließlichen Verwendung in der Halbleiterindustrie nach Integration in ein Waferschnellheizsystem zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. "Gerät von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbauelementen verwendeten Art, keine Ultraschallwerkzeugmaschine - Energieversorgungseinheit"

Energieversorgungseinheit Flash Power Supply Unit (FPSU) - aus vier Kondensatorbänken mit Spannungsversorgungseinheit, Ladeschaltung, Entladungs- und Widerstandseinheit, Thyristoren, Sicherheitsüberwachung und Systemsteuerung, in einem Schrankgehäuse mit Anschlussvorrichtungen, - zur elektrischen Versorgung von vier Blitz-Bogenlampen (max. Spannung 2,8 kV pro Lampe), - zur auschließlichen Verwendung in der Halbleiterindustrie nach Integration in ein Waferschnellheizsystem zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. "Gerät von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbauelementen verwendeten Art, keine Ultraschallwerkzeugmaschine - Energieversorgungseinheit"

Sog. SFT-Anlage - in Form eines modular konzipierten Maschinensystems aus Hochvakuum-Beschichtungs- kammer mit Substrat- und Target-Aufnahmen, Magnetron-Sputterquellen mit Hoch- frequenzgenerator, Kathoden-Systemen, Heizvorrichtung, Handlingsystem, Hoch- vakuum-Pumpen, Prozessgas-Versorgungs- und Verteilersystem, Schleusenkammer für Substrattransfer sowie einem über Kabel angeschlossenen Schaltschrank mit Steuerung (Abbildung siehe Anlage), - zur Erzeugung definierter dünner Schichten auf Halbleiterscheiben (8"-Wafer-Substraten) durch Kathodenzerstäubung (Sputtering) von Metall-Targets unter Einsatz von Prozess- gasen im Hochvakuum (PVD-Verfahren). "Apparat von der ausschließlich oder hauptsächlich zum Herstellen von Halbleiterbauelementen verwendeten Art, keine Ultraschallwerkzeugmaschine - Sputteranlage"