Apparat für fotografische Laboratorien, im Kapitel 90 anderweit weder genannt noch inbegriffen, kein Gerät der HS-Unterposition 9010 10, sog. IMP SF-100 System, in Form einer funktionellen Einheit zum maskenlosen, lithografischen Belichten von Wafern und ähnlichen Substraten, bestehend aus einem Belichtungssystem mit einem X-Y-Z-Verfahrtisch und einem über Kabel damit verbundenen PC. Die Belichtungseinheit beinhaltet unter anderem eine Lichtquelle, eine Strahlformungsoptik, einen Mikrospiegel-Matrix-Chip, eine Abbildungsoptik, einen Strahlteiler sowie eine Kamera in einem gemeinsamen Gehäuse zur Abschirmung von Streu- und Umgebungslicht. Der PC dient der Steuerung sowohl der Belichtungseinheit als auch des Verfahrtisches. Die Ware wird für die Mikrostrukturierung durch Belichtung sensibilisierten Materials verwendet.

Rechtsvorschriften: AV 1 / AV 6 / Anm 3 Kap 90 / Anm 4 ABS XVI weitere Codenummer/n: 8471