"Ellipsometer", im Wesentlichen bestehend aus einem Gerätesystem (funktionelle Einheit) aus der Optikeinheit mit mehreren Lasern, Prisma, Fotodetektor, Kopplungskopf und Drehtisch, über Kabel verbunden mit der Prismenkoppler-Bedieneinheit, einer Temperaturkontrolleinheit, einem PC, einem Monitor, einer Schnittstelle und ggfs. einem Drucker. Die zu messende Probe wird mithilfe eines pneumatisch betriebenen Kupplungskopfes mit der Basis eines Prismas in Kontakt gebracht, wodurch ein kleiner Luftspalt zwischen dem Film und dem Prisma entsteht. Ein Laserstrahl trifft auf die Basis des Prismas und wird an der Prismenbasis vollständig auf einen Fotodetektor reflektiert. Bei bestimmten diskreten Werten des Einfallswinkels (Moduswinkel) können Photonen über den Luftspalt in den Film tunneln und in einen geführten optischen Ausbreitungsmodus eintreten, wodurch die Intensität des Lichts, das den Detektor erreicht, stark abfällt. Das Gerät dient zur Messung und Analyse planarer Dünnfilmschichten (Dicke, Brechungsindex) von Halbleiterscheiben (Wafern). Zur äußeren Form siehe Abbildung in Anlage. Die Ware wird als "optisches Gerät zum Messen oder Prüfen, in Kapitel 90 anderweit weder genannt noch inbegriffen, anderes als Unterposition (KN) 9031 1000 bis 90312000, zum Prüfen von Halbleiterscheiben (wafers) oder Halbleiterbauelementen oder zum Prüfen von Fotomasken und Reticles für die Herstellung von Halbleiterbauelementen" eingereiht.

AV 1 / AV 6 Anm 3 Kap 90 / Anm 4 ABS XVI ErlKN Pos 9031 (HS) RZ 81.1, 81.3