So genanntes Gerät zur Elektronenstrahllithografie, im Wesentlichen bestehend aus einer Außenhandlingstation (für das Handling der Werkstücke), einem Grundgerät mit elektronen-optischer Säule (zum Bearbeiten der Werkstücke) und zwei Elektronikschränken mit diversen elektronischen Geräten zum Betrieb der Außenhandlingstation und des Grundgerätes. Alle Bestandteile sind durch Kabel und Leitungen miteinander verbunden (funktionelle Einheit). Das Gerät dient dem lithografischen Belichten fotoempfindlicher Resiste und Lacke auf Masken und Wafern mittels eines Elektronenstrahls. Das Gerät wird als "Apparat für fotografische Laboratorien (Apparate zum Aufbringen von Schaltungsbildern auf sensibilisierte Halbleitermaterialien), in Kapitel 90 anderweit weder genannt noch inbegriffen, nicht Unterposition (HS) 9010 10" eingereiht.

AV 1 / AV 6 Anm 3 Kap 90 / Anm 4 ABS XVI ErlKN Pos 9010 (HS) RZ 29.7