FRBTIFR-BTI-2021-025978486200000
Implanteur ionique à immersion plasma en micro et nanoélectronique pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteur ou dans le domaine du photovoltaïque.
La machine est composée :
- d’une chambre de traitement en alliage d’aluminium,
- d'un système de pompage (avec vanne d’isolement à vide, une pompe et un manomètre à vide),
- d'une armoire à gaz en acier inoxydable équipée de vannes, de régulateurs de débit massique et d’une à trois conduites de gaz,
- d’un système de polarisation avec condensateurs ou commutateurs,
- d’une table de support standard en aluminium recouverte d'un élément en graphite,
- d’un système de chargement manuel ou automatique,
- d’une interface utilisateurs.
Dimensions : 1,3 x 3,3 x 2,3 m (sans système de chargement semi-automatique) ou 3,1 x 3,3 x 2,3m (avec système de chargement semi-automatique).
Masse : 2500 kg environ (sans système de chargement semi-automatique).