Recherche douanière

Four de boulangerie, pâtisserie, à chariot rotatif et pouvant fonctionner au choix au gaz ou au fioul. Le four se présente sous la forme d’un ensemble de tôlerie en acier inoxydable formant le caisson étanche, ce caisson est équipé d’une porte en acier inoxydable à fermeture mécanique vitrée en son centre, l’habillage extérieur est en tôles prélaquées et la façade est réalisée en acier inoxydable. Ce four est équipé d’un brûleur gaz ou fioul, d’une hotte automatique à 2 vitesses, d’un plateau tournant et d’un système de buée en cascade. Une rampe d’accès permet d’introduire le chariot à l’intérieur du four. Les diverses tâches de régulation sont assurées par un régulateur à écran tactile dénommé ‘’eDrive’’. La tension d’alimentation est ~3x400V+N+T / 50 Hz.

APPAREIL D’IMPLANTATION IONIQUE UTILISÉ POUR IMPLANTER DES DOPANTS DANS UN « WAFER »(PLAQUETTE, DISQUE DE MATÉRIAUX SEMI CONDUCTEUR). CET APPAREIL EST ÉQUIPÉ DE TROIS MODULES PRINCIPAUX : - LE TERMINAL : ALIMENTATIONS, SOURCE IONIQUE, CABINET DE GAZ ET SÉPARATEUR DE MASSE. - LA LIGNE DE FAISCEAU : OPTIQUE IONIQUE, SYSTÈME DE BALAYAGE ET CONTRÔLE COMMANDE. - LA END STATION : CHAMBRE DE PROCESS ET SYSTÈME DE CHARGEMENT. L’IMPLANTEUR EST ÉQUIPÉ D’UNE TOUR AUTONOME COMPRENANT UN ÉCRAN TACTILE POUR LA GESTION ENTRE AUTRE DU FAISCEAU IONIQUE, LA SAUVEGARDE DE DONNÉES, L’IMPRESSION... UNE STATION DE REFROIDISSEMENT EST FOURNIE POUR PERMETTRE UN REFROIDISSEMENT RAPIDE DU SUBSTRAT PROCESSE. L’IMPLANTEUR EST IDENTIFIÉ AVEC UNE PLAQUE D’IMMATRICULATION GRAVÉE CE.

Couronne de flambage destinée à être installée dans un four à flamber utilisé en abattoir pour le brûlage des poils de la tête des porcs. Elle est composée de tubes 40/49 en acier galvanisé. Elle est équipée de brûleurs, d'une veilleuse et d'une alimentation en gaz (le mélange air/gaz est obtenu par injection d'air comprimé).

Appareil sécheur pour le traitement de plaques pour l’industrie des semi-conducteurs et de la biologie. Il est utilisé principalement pour le séchage des tranches de silicium pour les circuits fragiles semi-conducteurs. Fonctionnement : Après introduction des tranches de silicium dans la chambre de traitement de l'appareil (remplie d'alcool), du CO2 liquide est injecté (le CO2 étant miscible dans l'alcool); l'appareil opère ensuite un changement de pression et de température, l'alcool et l'eau sont vaporisés, et les tranches de silicium séchées. Il comporte un écran LCD tactile. Il est livré avec un tuyau en acier flexible pour l'alimentation en CO2, des joints de rechange, un système de filtration externe, des tubes d'échappement, un débitmètre, des lampes pour la chambre, des fusibles et un manuel utilisateur. Dimensions : 38X33.5X50.8cm.

ÉQUIPEMENT DE DOPAGE DESTINE A LA FABRICATION DE CIRCUITS INTÉGRÉS ÉLECTRONIQUES. IL S'AGIT D'UN APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE SERVANT A INTRODUIRE LES DOPANTS DANS LA STRUCTURE CRISTALLINE DE LA SURFACE DE LA PLAQUETTE SOUS LA FORME D'UN FAISCEAU D'IONS ACCÉLÉRÉS. IL EST DOTE D'UN ROBOT DE CHARGEMENT AFIN D'ACCROITRE LA CAPACITÉ DE TRAITEMENT A L'HEURE.