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FRBTIFR-BTI-2021-026408462499000

Machine-outil se présentant sous la forme d’une poinçonneuse portative manuelle destinée à être utilisée par des professionnels pour percer des trous dans des pièces d’acier (de type profilés). L’article est composé d’un bâti constitué d’acier haute dureté, d’un porte-poinçon, d’un poinçon, d’une matrice et d’un levier supérieur et inférieur actionnés par une vis de commande. La rotation de la vis de commande (à l’aide d’un levier « tourne à gauche ») permet de faire monter ou descendre le porte poinçon qui vient percer (par le poinçon) la pièce de métal positionnée entre le poinçon et la matrice. Selon les références : - les dimensions de l’article sont : 350 x 230 x 70 mm ou 400 x 2850 x 80 mm ou 480 x 360 x 90 mm; - le diamètre maximum de poinçonnage est de : 17 mm, 20 mm ou 25 mm; - l’épaisseur maximum de poinçonnage est de : 9 mm, 12 mm ou 16mm; - le poids de l’article est de : 9kg, 14kg ou 26 kg.

FRBTIFR-BTI-2020-061738467219900

Perceuse à percussion filaire pour emploi à la main. La perceuse à percussion filaire est destinée à percer des matériaux durs comme la pierre, la brique ou le béton léger. Elle s’utilise à la main. Elle fonctionne en se branchant sur une prise électrique. La perceuse à percussion filaire comprend notamment un moteur électrique, un mandrin à clé, une poignée amovible avec jauge de profondeur, et un sélecteur de perçage ou de percussion. Elle est accompagnée d’accessoires. Elle est conditionnée dans un emballage en carton. La perceuse à percussion filaire supporte une tension électrique de 230 V et une puissance de 500 W. Elle dispose d’une vitesse variable de 0 à 3 000 tr/min, d’une fréquence de percussion de 0 à 45 000 tr/min. La capacité de son mandrin à clé est de 2 à 13 mm.

FR-RTC-2015-0042908486209000

APPAREIL D’IMPLANTATION IONIQUE UTILISÉ POUR IMPLANTER DES DOPANTS DANS UN « WAFER »(PLAQUETTE, DISQUE DE MATÉRIAUX SEMI CONDUCTEUR). CET APPAREIL EST ÉQUIPÉ DE TROIS MODULES PRINCIPAUX : - LE TERMINAL : ALIMENTATIONS, SOURCE IONIQUE, CABINET DE GAZ ET SÉPARATEUR DE MASSE. - LA LIGNE DE FAISCEAU : OPTIQUE IONIQUE, SYSTÈME DE BALAYAGE ET CONTRÔLE COMMANDE. - LA END STATION : CHAMBRE DE PROCESS ET SYSTÈME DE CHARGEMENT. L’IMPLANTEUR EST ÉQUIPÉ D’UNE TOUR AUTONOME COMPRENANT UN ÉCRAN TACTILE POUR LA GESTION ENTRE AUTRE DU FAISCEAU IONIQUE, LA SAUVEGARDE DE DONNÉES, L’IMPRESSION... UNE STATION DE REFROIDISSEMENT EST FOURNIE POUR PERMETTRE UN REFROIDISSEMENT RAPIDE DU SUBSTRAT PROCESSE. L’IMPLANTEUR EST IDENTIFIÉ AVEC UNE PLAQUE D’IMMATRICULATION GRAVÉE CE.

FR-RTC-2014-0051348486209000

Appareil sécheur pour le traitement de plaques pour l’industrie des semi-conducteurs et de la biologie. Il est utilisé principalement pour le séchage des tranches de silicium pour les circuits fragiles semi-conducteurs. Fonctionnement : Après introduction des tranches de silicium dans la chambre de traitement de l'appareil (remplie d'alcool), du CO2 liquide est injecté (le CO2 étant miscible dans l'alcool); l'appareil opère ensuite un changement de pression et de température, l'alcool et l'eau sont vaporisés, et les tranches de silicium séchées. Il comporte un écran LCD tactile. Il est livré avec un tuyau en acier flexible pour l'alimentation en CO2, des joints de rechange, un système de filtration externe, des tubes d'échappement, un débitmètre, des lampes pour la chambre, des fusibles et un manuel utilisateur. Dimensions : 38X33.5X50.8cm.

FR-RTC-2014-0050758486209000

ÉQUIPEMENT DE DOPAGE DESTINE A LA FABRICATION DE CIRCUITS INTÉGRÉS ÉLECTRONIQUES. IL S'AGIT D'UN APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE SERVANT A INTRODUIRE LES DOPANTS DANS LA STRUCTURE CRISTALLINE DE LA SURFACE DE LA PLAQUETTE SOUS LA FORME D'UN FAISCEAU D'IONS ACCÉLÉRÉS. IL EST DOTE D'UN ROBOT DE CHARGEMENT AFIN D'ACCROITRE LA CAPACITÉ DE TRAITEMENT A L'HEURE.

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