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3D003

Électronique

Catégorie 3Groupe DWassenaar Arrangement

Description

Ce poste concerne les logiciels de lithographie computationnelle spécifiquement conçus pour le développement de motifs sur des masques ou réticules utilisés en lithographie EUV (ultraviolet extrême). Ces logiciels permettent de simuler et d’optimiser la gravure de circuits intégrés à l’échelle nanométrique, essentiels pour la fabrication avancée de semi-conducteurs.

Exemples de produits

Logiciel Synopsys Proteus pour la correction d’OPC sur masques EUV
Mentor Graphics Calibre nmOPC pour lithographie EUV
ASML Brion Tachyon pour la simulation de motifs sur masques EUV
KLA-Tencor Prolith pour la modélisation de lithographie EUV

Codes douaniers CN associes (indicatif)

85234945 85249020 85238010

Notes

-Technical Note

Notes applicables

Note Générale sur la Technologie (NGT)

L'exportation de 'technologie' 'nécessaire' au 'développement', à la 'production' ou à l''utilisation' d'articles contrôlés dans les catégories 0 à 9 est contrôlée conformément aux dispositions de cha...

Note Générale sur les Logiciels (NGL)

Les Listes ne contrôlent pas les 'logiciels' qui sont : 1. Généralement accessibles au public du fait qu'ils sont : a. Vendus sans restriction à partir de points de vente au détail, par l'un des moyen...

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Voir aussi

Nomenclature douanière

25 000+ codes

Guide de classement

1 095 HS4